ASTM F1367-1998(2003) 薄膜设备用铬喷镀极

作者:标准资料网 时间:2024-05-22 08:01:21  浏览:9185   来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardSpecificationforChromiumSputteringTargetsforThinFilmApplications
【原文标准名称】:薄膜设备用铬喷镀极
【标准号】:ASTMF1367-1998(2003)
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:1998
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.17
【标准类型】:(Specification)
【标准水平】:()
【中文主题词】:铬;薄膜;薄膜
【英文主题词】:Chromium;Chromiumsputteringtargets;Sputtering;Targets;chromiumsputteringtargetsforthinfilmapplications,test
【摘要】:1.1Thisspecificationcoverssputteringtargetsfabricatedfromchromiummetal.1.2Thisspecificationsetspuritygradelevels,physicalattributes,analyticalmethodsandpackagingrequirements.1.3ThevaluesstatedinSIunitsareregardedasstandard.
【中国标准分类号】:H62
【国际标准分类号】:25_220_40
【页数】:2P.;A4
【正文语种】: